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Silicon Technologies Ion Implantation and Thermal Treatment von Baudrant, Annie (eBook)

  • Erscheinungsdatum: 07.02.2013
  • Verlag: Wiley-ISTE
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Silicon Technologies

The main purpose of this book is to remind new engineers in silicon foundry, the fundamental physical and chemical rules in major Front end treatments: oxidation, epitaxy, ion implantation and impurities diffusion.

Produktinformationen

    Format: PDF
    Kopierschutz: AdobeDRM
    Seitenzahl: 320
    Erscheinungsdatum: 07.02.2013
    Sprache: Englisch
    ISBN: 9781118601112
    Verlag: Wiley-ISTE
    Serie: ISTE
    Größe: 14175kBytes
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